Optimisation de l’homogénéité de la température d’un substrat de silicium chauffé dans un système thermique rapide (RTP : Rapid Thermal Process) par analyse spectrale des propriétés radiatives - Université Paris-Est-Créteil-Val-de-Marne
Conference Papers Year : 2013

Optimisation de l’homogénéité de la température d’un substrat de silicium chauffé dans un système thermique rapide (RTP : Rapid Thermal Process) par analyse spectrale des propriétés radiatives

Domains

Chemical and Process Engineering
Fichier principal
Vignette du fichier
Logerais SFT 2013.pdf (1.61 Mo) Télécharger le fichier
Origin Files produced by the author(s)

Olivier RIOU  : Connect in order to contact the contributor

https://hal.u-pec.fr/hal-04137126

Submitted on : Thursday, June 22, 2023-9:52:27 AM

Last modification on : Wednesday, November 29, 2023-3:36:05 AM

Long-term archiving on : Saturday, September 23, 2023-6:23:46 PM

Download

Dates and versions

hal-04137126 , version 1 (22-06-2023)

Identifiers

  • HAL Id : hal-04137126 , version 1

Cite

Pierre-Olivier Logerais, Raouf Kelalfa, Olivier Riou, Anne Bouteville. Optimisation de l’homogénéité de la température d’un substrat de silicium chauffé dans un système thermique rapide (RTP : Rapid Thermal Process) par analyse spectrale des propriétés radiatives. Congrès Français de Thermique, SFT 2023, Société française de thermique - SFT, May 2013, Gérardmer, France. ⟨hal-04137126⟩

Export

BibTeX XML-TEI Dublin Core DC Terms EndNote DataCite

Collections

UPEC CERTES HESAM IRENAV LAMPA LCPI LABOMAP LISPEN MSMP
10 View
18 Download

Share

More