Étude de l’influence de la diffusivité thermique du hublot de quartz sur le profil de température d’un substrat de silicium dans un système thermique rapide (RTP : Rapid Thermal Process) - Université Paris-Est-Créteil-Val-de-Marne Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2013

Étude de l’influence de la diffusivité thermique du hublot de quartz sur le profil de température d’un substrat de silicium dans un système thermique rapide (RTP : Rapid Thermal Process)

Domaines

Génie des procédés

Olivier RIOU  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.u-pec.fr/hal-04137061

Soumis le : jeudi 22 juin 2023-08:52:07

Dernière modification le : mercredi 29 novembre 2023-03:36:05

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-04137061 , version 1 (22-06-2023)

Identifiants

  • HAL Id : hal-04137061 , version 1

Citer

Pierre-Olivier Logerais, Raouf Kelalfa, Olivier Riou, Anne Bouteville. Étude de l’influence de la diffusivité thermique du hublot de quartz sur le profil de température d’un substrat de silicium dans un système thermique rapide (RTP : Rapid Thermal Process). CIFQ 2013, Colloque International Franco-Québécois en énergie (CIFQ), Jun 2013, Reims, France. ⟨hal-04137061⟩

Exporter

BibTeX XML-TEI Dublin Core DC Terms EndNote DataCite

Collections

UPEC CERTES HESAM IRENAV LAMPA LCPI LABOMAP LISPEN MSMP
7 Consultations
0 Téléchargements

Partager

Gmail Mastodon Facebook X LinkedIn More