Étude de l’influence de la diffusivité thermique du hublot de quartz sur le profil de température d’un substrat de silicium dans un système thermique rapide (RTP : Rapid Thermal Process) - Université Paris-Est-Créteil-Val-de-Marne
Conference Papers Year : 2013
No file

Dates and versions

hal-04137061 , version 1 (22-06-2023)

Identifiers

  • HAL Id : hal-04137061 , version 1

Cite

Pierre-Olivier Logerais, Raouf Kelalfa, Olivier Riou, Anne Bouteville. Étude de l’influence de la diffusivité thermique du hublot de quartz sur le profil de température d’un substrat de silicium dans un système thermique rapide (RTP : Rapid Thermal Process). CIFQ 2013, Colloque International Franco-Québécois en énergie (CIFQ), Jun 2013, Reims, France. ⟨hal-04137061⟩
9 View
0 Download

Share

More