Étude de l’influence de la diffusivité thermique du hublot de quartz sur le profil de température d’un substrat de silicium dans un système thermique rapide (RTP : Rapid Thermal Process) - Université Paris-Est-Créteil-Val-de-Marne
Communication Dans Un Congrès Année : 2013

Étude de l’influence de la diffusivité thermique du hublot de quartz sur le profil de température d’un substrat de silicium dans un système thermique rapide (RTP : Rapid Thermal Process)

Domaines

Génie des procédés

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https://hal.u-pec.fr/hal-04137061

Soumis le : jeudi 22 juin 2023-08:52:07

Dernière modification le : mardi 7 janvier 2025-10:32:02

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Dates et versions

hal-04137061 , version 1 (22-06-2023)

Identifiants

  • HAL Id : hal-04137061 , version 1

Citer

Pierre-Olivier Logerais, Raouf Kelalfa, Olivier Riou, Anne Bouteville. Étude de l’influence de la diffusivité thermique du hublot de quartz sur le profil de température d’un substrat de silicium dans un système thermique rapide (RTP : Rapid Thermal Process). CIFQ 2013, Colloque International Franco-Québécois en énergie (CIFQ), Jun 2013, Reims, France. ⟨hal-04137061⟩

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