Optimisation de l’homogénéité de la température d’un substrat de silicium chauffé dans un système thermique rapide (RTP : Rapid Thermal Process) par analyse spectrale des propriétés radiatives - Université Paris-Est-Créteil-Val-de-Marne Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2013

Optimisation de l’homogénéité de la température d’un substrat de silicium chauffé dans un système thermique rapide (RTP : Rapid Thermal Process) par analyse spectrale des propriétés radiatives

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Génie des procédés
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Dates et versions

hal-04137126 , version 1 (22-06-2023)

Identifiants

  • HAL Id : hal-04137126 , version 1

Citer

Pierre-Olivier Logerais, Raouf Kelalfa, Olivier Riou, Anne Bouteville. Optimisation de l’homogénéité de la température d’un substrat de silicium chauffé dans un système thermique rapide (RTP : Rapid Thermal Process) par analyse spectrale des propriétés radiatives. Congrès Français de Thermique, SFT 2023, Société française de thermique - SFT, May 2013, Gérardmer, France. ⟨hal-04137126⟩

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